Sematech en Carl Zeiss slaan de handen ineen om een gat in de EUV-infrastructuur te dichten: maskerinspectie. De partners gaan een machine ontwikkelen die EUV-maskers voor 22-nanometerchips (half-pitch) controleert. Een productiewaardige tool, uitbreidbaar naar 16 nanometer HP, moet in 2014 gereed zijn ? op tijd om halfgeleiderfabrikanten te bedienen die al vroeg de EUV-sprong wagen.
Naarmate chipstructuren kleiner worden, neemt de kans toe dat afbeelding van vuiltjes en defecten op het fotomasker tot fatale verstoringen leidt. Bij EUV-lithografie voor 22-nanometerchips en kleiner zijn de…
Winkelmand
