ASML en Imec werken samen aan de kwalificatie van het Veldhovense programmeerbare Flexray-belichtingssysteem. In oktober rust het Leuvense R&D-centrum een XT:1900I-lithografiescanner uit met deze technologie. De partners hebben de werking al aangetoond op een SRam-geheugencel van 0,078 µm².
Een sleutelonderdeel van elk lithografiesysteem is de belichter. Die is verantwoordelijk voor de pupilvorm en daarmee voor de conditie en de vorm van de lichtbundel voordat die op het masker valt. Door de pupil op maat te snijden voor de specifieke lay-out, is het mogelijk de resolutie en de procesmarges…
Winkelmand
